电子级氢氟酸中微量金属杂质检测方法优化研究

杨玉才 ( 多氟多新材料股份有限公司 )

张晓蝶 ( 多氟多新材料股份有限公司 )

王 放 ( 多氟多新材料股份有限公司 )

https://doi.org/10.37155/2811-0609-0516-9

Abstract

电子级氢氟酸作为半导体制造领域的关键湿电子化学品,其超痕量金属杂质的精准分析长期受制于基体效应与信号干扰。从样品前处理、仪器检测条件及方法体系三个维度实施全流程优化。前处理引入蒸干复溶介质转换策略,消解氢氟酸基体对金属离子信号的抑制效应;仪器检测层面调试射频功率、积分时长及分元素分辨率等关键参数,改善信号采集质量;方法体系层面完善基质匹配校准曲线构建与背景扣除逻辑,增强定量准确性。优化方案在灵敏度、稳定性及抗干扰能力方面均有显著改善,能够满足电子级氢氟酸中多种超痕量金属杂质的检测需求,为高纯湿电子化学品杂质分析提供了方法学参考。

Keywords

电子级氢氟酸;微量金属杂质;前处理工艺;检测条件;方法优化

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