离子色谱法同步检测电子级氢氟酸、高纯硝酸、氨水中阴离子杂质
王 放 （ 多氟多新材料股份有限公司 ）
师若欣 （ 多氟多新材料股份有限公司 ）
张晓蝶 （ 多氟多新材料股份有限公司 ）
https://doi.org/10.37155/2717-5189-0819-7Abstract
电子级氢氟酸、高纯硝酸与氨水内部微量阴离子杂质会影响半导体生产品质，离子色谱可完成多类液相试剂中杂离子的分离分析，本文围绕三类试剂基体理化特征、杂质存在形态梳理整套检测基础理论，逐层拆解基体、共存离子、环境与设备参数形成的干扰作用机制，从色谱分离、淋洗液、抑制器、前处理维度完成条件调整，搭建可适配酸碱多基质的通用检测流程与多离子分离模式，配套基体消除手段完善整套标准化检测框架，为高纯试剂阴离子检测提供完整理论支撑。
Keywords
离子色谱；电子级高纯试剂；阴离子杂质；基体干扰；样品前处理Full Text
PDFReferences
[1]星成霞,江贝,胡远翔,等.液碱和氨水中痕量阴离子色谱检测样品制备[J].化学世界,2025,66(4):246-252.
[2]陈天怡,许竞早,彭振磊,等.离子色谱法在湿电子化学品阴离子检测中的应用进展[J].理化检验（化学分册）,2024,60(11):1198-1208.
[3]高一鸣,郝萍,田玉平,等.10nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法[J].上海计量测试,2021,48(3): 6-8.
[4]赵艳,谢艳艳,高燕,等.离子色谱法测定电子工业用高纯盐酸中痕量硫酸根离子[J].冶金分析,2021,41(3):86-90.
[2]陈天怡,许竞早,彭振磊,等.离子色谱法在湿电子化学品阴离子检测中的应用进展[J].理化检验（化学分册）,2024,60(11):1198-1208.
[3]高一鸣,郝萍,田玉平,等.10nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法[J].上海计量测试,2021,48(3): 6-8.
[4]赵艳,谢艳艳,高燕,等.离子色谱法测定电子工业用高纯盐酸中痕量硫酸根离子[J].冶金分析,2021,41(3):86-90.
Copyright © 2026 王 放,师若欣,张晓蝶
Publishing time:2026-10-01
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License