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片式薄膜爆炸箔制备及其电爆性能研究

郑国强 （ 中国电子科技集团公司第四十三研究所 ）

姚艺龙 （ 微系统安徽省重点实验室 ）

李鸿高 （ 中国电子科技集团公司第四十三研究所 ）

https://doi.org/10.37155/2717-5197-0407-26

Abstract

本文通过物理气象沉积，化学气象沉积、光刻等薄膜工艺，制备片式薄膜爆炸箔，实现了爆炸箔制备 微电子化，大幅提高爆炸箔可制造性，一致性，利于批量生产。片式薄膜爆炸箔电爆性能测试表明，当起爆电压为 2500V，峰值电流可达到1450A，飞片速度最快可达到3720 m/S。

Keywords

爆炸箔； 制备方法；电爆性能

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References

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Copyright © 2022 郑国强,姚艺龙,李鸿高 Creative Commons License Publishing time:2022-07-31
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