光刻机精密机电部件的调试与校准技术研究

魏克温; 杨　彬

doi:https://doi.org/10.37155/2717-5197-0802-37

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光刻机精密机电部件的调试与校准技术研究

魏克温（复旦大学宁波研究院）

杨　彬（海天塑机集团有限公司）

https://doi.org/10.37155/2717-5197-0802-37

Abstract

光刻机作为半导体制造的核心设备，其精密机电部件的性能直接决定芯片的制程精度与生产良率。本文系统研究光刻机关键精密机电部件的调试与校准技术，涵盖光源系统、曝光光学系统、机械运动系统等核心模块，通过分析各部件的技术参数要求，阐述调试流程中的关键控制点与校准方法的创新应用。结合实验数据与案例分析，提出基于多传感器融合的动态校准模型，为7nm及以下制程光刻机的精密调试提供技术参考，助力半导体装备国产化进程。

Keywords

光刻机；精密机电部件；调试；校准技术

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References

[1]李艳丽,刘显和,伍强.先进光刻技术的发展历程与最
新进展[J].激光与光电子学进展,2022,59(09):86-102.
[2]邵微,梁红波.光刻技术的挑战和解决思路[J].精细
与专用化学品,2021,29(04):1-4.
[3]李敏,陈涛涛,鲁森,等.光刻机超精密运动台数据驱
动MIMO定结构前馈控制[J].机械工程学报,2023,59(21):99-
109.
[4]谭久彬.超精密测量是支撑光刻机技术发展的基石
[J].仪器仪表学报,2023,44(3):1-7.

Publishing time:2026-01-31
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